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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2026/01/16
ダブルパルス磁場源セット プローブヘッド寸法 直径250µm (ICI-DP HH250-15)
25nsが、システムの本質を露わにする。
ICI‑DP HH250‑15 は、IC や電子回路に高速の過渡磁界パルスを注入するために設計された、電磁フォルト注入（EMFI）用のプローブ／磁界ソース。 セキュリティ評価、耐タンパ性試験、フォルト注入研究などで、IC の特定位置へ精密にパルスを照射し、意図的に誤動作を誘発するために使用される。# 電磁フォルト注入（EMFI） # 外部同期入力（Sync） # ダブルパルス磁界ソース # 耐タンパ性評価 # 25nsパルス間隔 # 暗号デバイス解析 # 高精度位置照射 # IC脆弱性テスト # 過渡磁界パルス # 高空間分解能プローブウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2026/01/16
